年，国产半导体光刻胶有望开花结果实现放量。
文/每日财报苏锋
光刻胶作为制造关键原材料，随着未来汽车、人工智能、国防等领域的快速发展，全球光刻胶市场规模将有望持续增长。
根据Reportlinker数据，全球光刻胶市场预计-年复合年增长率有望达到6.3%，至年突破亿美金，到年超过亿美元。
产业的快速发展也给国内企业带来了千载难逢的机遇。
高壁垒
光刻胶壁垒极高，主要体现在三大方面，专利壁垒、客户壁垒、设备壁垒。
首先，光刻胶的选择和光刻胶工艺的研发是一项漫长而复杂的过程，一旦一种光刻工艺被建立，一般不再改变。
从专利数看，日本美国合计占比超70%，大陆发展迅速。根据智慧芽数据，截至年9月，全球光刻胶第一大技术来源国为日本，专利申请量占全球光刻胶专利总申请量的46%；美国则以25%的申请量位列第二。中国则以7%的申请量排在韩国之后。
从趋势上看，中国的光刻胶相关专利申请量正在快速增长，在年实现了对日本的反超。年，中国光刻胶专利申请量为1.29万项，日本光刻胶专利申请量下降至项。
另一方面，光刻胶种类多样，不同类别化学结构、性能有所区别。光刻胶下游不同客户的需求差异明显，即使同一客户的不同应用需求也不一致。这就导致光刻胶的整体生产缺乏统一的工艺，每一类光刻胶使用的原料在化学结构、性能上均有所区别，要求使用不同品质等级的专用化学品。这就迫使制造商需要有能力设计出符合不同需求设计不同配方，并有相应的生产工艺完成生产。这属于行业的核心技术之一，对企业的技术能力要求比较高。
最后，光刻胶生产商需要购致光刻机用于内部配方测试，根据验证结果调整配方。但光刻机设备昂贵，数量有限且供应可能受国外限制，尤其是EUV光刻机目前全球只有ASML能批量供应。
根据ASML年财报，年公司共销售台光刻系统，销售额约.5亿欧元，其中42台为EUV光刻系统机，销售额约62.8亿欧元，平均一台1.5亿欧元。
所有这些因素促使中国大陆光刻胶国产化率极低。
半导体用光刻胶被日本企业垄断，国产化率仅10%，目前我国仅实现G线、I线、KRF光刻胶量产，ARF光刻胶大都处于研发或送样阶段，EUV光刻胶尚处于早期研发阶段。
平板显示用光刻胶，主要产地为日本、韩国和中国台湾，其中彩色光刻胶、黑色光刻胶国产化率仅为5%，雅克科技收购LG化学该板块业务后成为国内最大供应商。TFT光刻胶，中国大陆大部分产能仍为进口。PCB光刻胶，湿膜及阻焊油墨已经基本是实现自给，国产化率达46%，而干膜光刻胶仍需大量进口，主要供应地区在日本和中国台湾。
待开花
年，国产半导体光刻胶有望开花结果实现放量。
从A股上市公司在光刻胶原材料的布局情况来看，大陆企业在上、中游均有布局。
溶剂方面有百川股份、怡达股份等，单体有华懋科技（投资徐州博康）、联瑞新材等，树脂有彤程新材、圣泉集团、强力新材等，光引发剂有强力新材等。
在中游制造方面已经取得了里程碑式的突破，涌现出一批优秀企业，在半导体光刻胶方面，有彤程新材、晶瑞电材、上海新阳、华懋科技等。
彤程新材是全球领先的新材料综合服务商，外延并购北京科华、北旭电子发力高端光刻胶，已实现从电子酚醛树脂到成品光刻胶的完整布局。公司公告显示，北京科华是唯一被SEMI列入全球光刻胶八强的中国光刻胶公司，批量供应KrF光刻胶；北旭电子是国内面板光刻胶领先企业，TFT正性光刻胶在京东方占有45%以上的份额。
年，彤程新材的半导体光刻胶业务实现营业收入1.15亿元，同比增长28.80%；公司半导体用G/I线光刻胶产品较上年同期增长50.22%；KrF光刻胶产品较上年同期增长.80%。报告期内，公司G线光刻胶的市场占有率达到60%；I线光刻胶和KrF光刻胶批量供应于中芯国际、华虹宏力、长江存储、华力微电子、武汉新芯、华润上华等13家12寸客户和17家8寸客户。子公司北京科华的I线光刻胶已接近国际先进水平，其种类涵盖国内14nm以上大部分工艺需求；KrF产品在Poly、AA、Metal等关键层工艺完成了重大突破，获得客户批量使用；同时TM/TV、Thick、Implant、ContactHole等工艺市占率持续提升。
晶瑞电材的光刻胶产品覆盖度广，立足g/i线光刻胶发展高端KrF、ArF光刻胶。子公司苏州瑞红拥有负型光刻胶系列、宽谱正胶系列、g线系列、i线光刻胶系列、KrF光刻胶系列等数十个型号产品。i线光刻胶已向国内中芯国际、合肥长鑫等知名大尺寸半导体厂商供货，是我国供应半导体光刻胶出货量最大的本土企业之一。
南大光电的ArF光刻胶率先通过下游客户认证，公司正在自主研发和产业化的ArF光刻胶（包含干式及浸没式）可以达到90nm-14nm的集成电路工艺节点。及年，公司分别获得国家02专项“高分辨率光刻胶与先进封装光刻胶产品关键技术研发”和“ArF光刻胶产品的开发和产业化”项目立项，项目分别于年和年通过国家02专项专家组的验收。公司建成了ArF光刻胶产品（包括干式和浸没式）的质量控制平台、年产25吨的生产线，研发的ArF光刻胶产品分别通过一家存储芯片制造企业和一家逻辑芯片制造企业客户认证，为ArF光刻胶的规模化量产奠定了坚实的基础。
在5G和新兴产业的发展带动下，如汽车电子行业和物联网的推动下，中国集成电路行业市场规模将不断扩大，预计到年，我国集成电路市场规模将达到亿元，-年CAGR为16.22%。
广阔的市场规模是产业发展的前提，中国光刻胶的机会已经来了。