集微网消息年下半年以来，全球半导体行业景气度持续高涨，上游光刻胶市场也不例外，日本信越化学等厂商受多种因素影响，不仅趁此机会抬高光刻胶价格，而且还减少部分中国客户的供给量，中小型客户甚至出现断供的情况。
不过，“断供危机”也倒逼国内晶圆厂商开始尝试国产光刻胶，这在一定程度上加快了国产光刻胶的发展速度。目前彤程新材、晶瑞电材已经供货多家下游厂商，而南大光电、上海新阳、广信材料、飞凯材料等厂商的光刻胶产品进度也明显加快。
什么是光刻胶？
光刻胶是利用光化学反应经光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质，由成膜剂、光敏剂、溶剂和添加剂等主要化学品成分和其他助剂组成，被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作，是微细加工技术的关键性材料。
在光刻工艺中，光刻胶被均匀涂布在硅片、玻璃和金属等不同的衬底上，经曝光、显影和蚀刻等工序将掩膜版上的图形转移到薄膜上，形成与掩膜版完全对应的几何图形。光刻胶按显示的效果，可分为正性光刻胶和负性光刻胶，如果显影时未曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相反，称为负性光刻胶；如果显影时曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相同，称为正性光刻胶。
按照曝光波长分类，可分为紫外光刻胶（~nm）、深紫外光刻胶（~nm）、极紫外光刻胶（EUV，13.5nm）、电子束光刻胶、离子束光刻胶、X射线光刻胶等。通常来说，波长越短，加工分辨率越佳。
按应用场景来看，光刻胶的三大应用领域分别为PCB、面板和半导体。用于PCB、显示面板的光刻胶，分辨率要求并不高。而目前半导体用光刻胶主要分为5个种类：g线光刻胶，i线光刻胶，KrF光刻胶，ArF光刻胶和EUV光刻胶。随着芯片制程工艺的不断进步，对光刻胶分辨率的要求也越来越高，从微米级到现在纳米级的蚀刻，甚至将来可能到原子级的蚀刻。
数据来源：公开数据，集微网整理
据法国知名调研机构-Reportlinker公布的数据显示，年，全球光刻胶在平板显示(LCD)领域的应用占比最大，约27.8%；而在PCB、半导体领域的应用比例分别为23%和21.9%。
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而生产光刻胶的原料包括光刻胶树脂、单体、光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）及其他助剂等。数据显示，树脂占光刻胶总成本的50%，在光刻胶原料中占比最大，其次是占35%的单体和占15%的光引发剂及其他助剂。
市场情况如何？
随着电子信息产业发展的突飞猛进，光刻胶市场总需求不断提升。根据Cision数据，年，全球整体光刻胶市场规模为91亿美元，而到年则有望达到亿美元，年均复合增速5%。
而中国作为全球最大电子产品进出口国，占据了光刻胶最大的市场份额。国内光刻胶市场规模快速扩大，根据SEMI数据显示，中国光刻胶市场规模由年的亿元增长至年的亿元，年均复合增速12.0%。
不过，由于极高的行业壁垒，全球半导体光刻胶供应市场高度集中，核心技术掌握少数国际大厂手中，日本的JSR、东京应化、信越化学及富士胶片四家企业占据了全球70%以上的市场份额，处于市场垄断地位。在全球半导体光刻胶市场上，日本企业处于绝对垄断地位。
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国产光刻胶企业无论是技术水平还是市场份额，均远落后于世界先进厂商。目前，虽然我国光刻胶产品在全球中低端市场占有一席之地，但高端光刻胶基本依赖于进口。
从细分市场来看，在PCB光刻胶，湿膜及阻焊油墨已经基本是实现自给，国产化率超过50%，而干膜光刻胶仍需大量进口，主要供应地区在日本和中国台湾。
而平板显示用光刻胶主要产地为日本、韩国和中国台湾，其中彩色光刻胶、黑色光刻胶国产化率仅为5%，雅克科技收购LG化学该板块业务后成为国内最大供应商；TFT光刻胶，中国大陆大部分产能仍靠进口。
半导体用光刻胶国产化率更低，基本被日本企业所垄断，我国仅实现g线、i线、KrF和ArF国产化，且大多供应的是g线、i线光刻胶，而高端市场EUV光刻胶尚处于早期研发阶段。
高端光刻胶长期为国外企业垄断的现状，对我国芯片制造造成“卡脖子”风险。去年底以来，集成电路企业生产所需的光刻胶等原材料出现断供危机。近日“20余家企业包机‘团购’光刻胶、防反射薄膜生成液等集成电路制造相关材料”的新闻备受